在负离子模式下 LockSpray 设置失败 - WKB3445
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故障描述
- 在负离子模式下 LockSpray 设置失败
- 由于强度不足,IntelliStart 报告失败,但 Tune 页面中的锁定质量数峰强度很大
- 在设置过程中,锁定质量数峰明显移动到了错误的质量数位置上
环境
- Xevo G2 Tof
- Xevo G2 QTof
- MassLynx 4.1 SCN 802
- SCN 862
原因
软件在负离子模式下错误地使用了正离子特定的 Veff 值进行强度检查。
解决方法
- 确保正离子和负离子模式下的 Veff 值设置正确。
- 确保锁定质量数峰强度足够大。
- 在 LockSpray 设置强度检查中,确认负离子模式下的锁定质量数峰在正确位置的 2 Da 范围内。
- 在 LockSpray Setup Report(LockSpray 设置报告)的 Detected Mass(检测的质量数)列中显示正确的质量数。
附加信息
目前在负离子 LockSpray 设置中使用正离子 Veff 值的问题还没有解决,但按照上面的步骤可以将影响降至最低。
要设置 Veff:
- Tune 页面应为 System(系统)视图。
- 在菜单栏中,转到 System > Acquisition settings(系统 > 采集设定)。
- 指定参比化合物(例如,亮氨酸脑啡肽)的参比质量数和观测质量数。
- 单击 Calculate(计算)。
- 单击 Update(更新)。
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