如何使用 Empower 处理方法中“组分”选项卡上的“杂质 RRF”字段？- WKB14718

环境

• Empower 3 Feature Release 3 (FR3)

答案

“杂质 RRF”是处理方法“组分”表中的一个字段。添加了“杂质 RRF”功能可以校正杂质的峰面积。它使用的主要公式如下：

校正峰面积 = 峰面积 * 杂质 RRF

“校正面积”用于根据处理方法“杂质”选项卡上所选的“杂质响应”值计算其他字段。以下是使用的下一个公式的示例：

% 面积 = 面积/总面积 * 100
% 调整后面积 = 校正面积~/调整后总面积 * 100 
相对于主要组分的% 面积 = 校正面积~ / 主要组分面积 * 100 
% w/ w，其中，(w = 面积) = 面积/主要组分的面积 * 100

这些是在 E3 FR2 中引入的。但是，E3 SR2 中进行了一些重要的改进，包括 %w/w 计算，其中 w 的值为“峰高”或“校正面积”：

如果 w 值 = 校正面积~，则 %w/w 的公式如下：
%w/w =（该峰的校正面积~/杂质主要组分峰的校正面积~）* 100。

如果 w 值 = 面积，则 %w/w 的公式如下：
%w/w =（该峰的面积/杂质主要组分峰的面积）* 100。

如果 w 值 = 峰高，则 %w/w 的公式如下：
%w/w =（峰 * 杂质 RRF）/杂质主要组分峰高）* 100。

此外，加上校正后面积~ 后，相对于主要组分的面积百分比现在计算如下：
相对于主要组分的面积百分比 =（该峰的校正面积~/杂质主要组分峰的面积）* 100。

附加信息